产品检索
 
LMEC-300™

RIE, IBE, PECVD

12英寸特种金属膜层刻蚀系统

Herent® Chimera®

ICP

12英寸硬掩膜刻蚀系统

Herent® Chimera® M

ICP, Strip

12英寸金属刻蚀系统

Terbank™ Pishow® P

ICP

8英寸硅刻蚀系统

Kessel™ Pishow® M

ICP, Strip

8英寸金属刻蚀系统

Haasrode® Avior™

CCP

电容耦合等离子体刻蚀系统

Pishow® 系列

ICP

8英寸电感耦合等离子体刻蚀系统

Pishow® A 系列

ICP

8英寸电感耦合等离子体-原子层刻蚀系统

Pishow® D 系列

ICP

8英寸电感耦合等离子体-深刻蚀系统

Pangea® 系列

IBE

12英寸离子束刻蚀系统

Pangea® R 系列

RIBE

12英寸反应离子束刻蚀系统

Lorem® 系列

IBE

8英寸离子束刻蚀系统

Lorem® R 系列

RIBE

8英寸反应离子束刻蚀系统

Seehund®

VPD

气相分解金属沾污收集系统

Shale® C 系列

ICP-CVD

8英寸电感耦合等离子体化学气相沉积系统

Shale® 系列

PECVD

8英寸等离子体增强化学气相沉积系统

Ganister™

IBD

8英寸离子束沉积系统

circle-arrow2circle-arrow2facebookgooglehandshake2health2linkedinmenupdfplant2searchtwitteryoutube