Pishow® D 系列

8英寸电感耦合等离子体-深硅刻蚀(ICP-DSE)系统



系统特性

  • Pishow® D 系列列是采用深硅刻蚀技术的电感耦合等离子体(ICP)刻蚀系统
  • 提供Bosch解决方案,实现对Si的高深宽比刻蚀
  • 优化的气柜设计,缩短进气距离,最短工艺切换时间小于1.0秒
  • Pishow® D 系列可选择8~4英寸晶圆,提供单腔式和多腔式等多种腔室搭配方式






设备选型

工艺数据

深宽比及刻蚀深度可调控,侧壁垂直,粗糙度较好

详细介绍

Pishow® D 系列深刻蚀系统,是针对8英寸~6英寸产线或科研深硅刻蚀工艺的专用设备,拥有自主开发的优化设计,保证了优异的刻蚀精度控制和损伤控制。

提供Si Bosch工艺的解决方案。


该系统高性价比的解决方案和优秀的空间利用率,可帮助不同客户实现产能升级。

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