产品检索
 
LMEC-300™

RIE, IBE, PECVD

12英寸特种金属膜层刻蚀系统

Herent™ Chimera™

ICP

12英寸硬掩模刻蚀系统

Herent™ Chimera™ M

ICP, Strip

12英寸金属刻蚀系统

Terbank™ Pishow™ P

ICP

8英寸硅刻蚀系统

Kessel™ Pishow™ M

ICP, Strip

8英寸金属刻蚀系统

Haasrode™ Avior™

CCP

电容耦合等离子体刻蚀系统

Pishow™ 系列

ICP

8英寸电感耦合等离子体刻蚀系统

Pishow™ A 系列

ICP

8英寸电感耦合等离子体-原子层刻蚀系统

Pishow™ D 系列

ICP

8英寸电感耦合等离子体-深刻蚀系统

Pangea™ 系列

IBE

12英寸离子束刻蚀系统

Pangea™ R 系列

RIBE

12英寸反应离子束刻蚀系统

Lorem™ 系列

IBE

8英寸离子束刻蚀系统

Lorem™ R 系列

RIBE

8英寸反应离子束刻蚀系统

circle-arrow2circle-arrow2facebookgooglehandshake2health2linkedinmenupdfplant2searchtwitteryoutube