关于我们


        鲁汶仪器于2015年,由比利时鲁汶仪器、中科院微电子研究所等共同注资成立。公司总部位于江苏省徐州市,在北京设有研发中心,在上海、成都、台湾新竹、新加坡、韩国光州等地设有市场和技术服务中心。
        公司拥有国际化的专家团队和苏北地区首家“诺贝尔奖得主工作室”。技术团队由诺贝尔奖获得者、五名国家级专家、多名国内外半导体领域知名教授、首席工程师、及高校科研院所的年轻技术骨干组成。 
        作为以创新为主导的全球性高科技半导体装备企业,鲁汶仪器以其国际化团队研发出全球领先的新型12英寸特种金属膜层刻蚀系统,为先进的集成电路制造生产线提供磁存储器(MRAM)、阻变存储器(ReRAM)和相变存储器(PCRAM)等非易失性存储器中特种金属膜层的刻蚀装备和工艺解决方案。


全球布局

circle-arrow2circle-arrow2facebookgooglehandshake2health2linkedinmenupdfplant2searchtwitteryoutube