【产品介绍】

在反应离子刻蚀过程中，反应气体放电产生大量的等离子体，这些离子与材料表面相互作用，与表面原子产生化学反应，生成可挥发产物，这些挥发产物随真空抽气系统被排走。随着材料表层的“反应-剥离-排放”的周期循环，材料被逐层刻蚀到指定深度。除了表面化学反应外，带能量的离子轰击材料表面也会使表面原子溅射，产生一定的刻蚀作用。所以，反应离子刻蚀包括物理和化学刻蚀两者的结合。

HAASRODE-R200A是实验室通用刻蚀设备，紧凑型外观结构设计，占地面积小，可以用于不同领域的微细加工，是实验室、微纳加工或小型生产的基础设备之一 。

【产品特点】

l 由反应腔室、真空获得系统、下电极、射频电源及匹配器、反应气路及质量流量计、真空检测系统、电气控制系统、控制软件等组成

l 能够刻蚀Si、SiO2、Si3N4、Poly-Si、Au、Ag、Ta、InP、W、LiNbO3、光刻胶、有机膜等材料

l 反应腔室采用耐腐蚀材质，可以保证腔室真空性能

l 真空获得系统由耐腐蚀高端干泵、分子泵等组成

l 下电极具备He背冷和水冷功能，精确控制工艺温度，适用于200mm及以下尺寸样品

l 采用进口射频电源，配有自动匹配器

l 可以根据用户需求灵活配置工艺气体，配有进口高精度质量流量计，精准控制反应气体流量

l 配置高精度工艺真空规和调压阀，精确控制工艺压力

l 工艺流程全自动，带有工艺数据库，提供多种的工艺菜单

l 机台安全机制由软硬互锁（interlock）两级组成，配有互锁、报警等安全措施

l 带有干法清洗功能，避免腔室污染

【产品配置及指标】

l 反应腔室：                       1套；

l 真空获得系统：                1套

l 下电极：                           1套

l 射频电源及自动匹配器： 1套，频率13.56MHz

l 反应气路及质量流量计： 根据用户需求配置

l 真空检测系统：                1套

l 电气控制系统：                1套

l 控制软件：                        1套

l 选配loadlock自动传输系统

【主要应用】

应用于光电子、MEMS、激光器、传感器、太阳电池等领域