【产品介绍】
在反应离子刻蚀过程中,反应气体放电产生大量的等离子体,这些离子与材料表面相互作用,与表面原子产生化学反应,生成可挥发产物,这些挥发产物随真空抽气系统被排走。随着材料表层的“反应-剥离-排放”的周期循环,材料被逐层刻蚀到指定深度。除了表面化学反应外,带能量的离子轰击材料表面也会使表面原子溅射,产生一定的刻蚀作用。所以,反应离子刻蚀包括物理和化学刻蚀两者的结合。
HAASRODE-R200A是实验室通用刻蚀设备,紧凑型外观结构设计,占地面积小,可以用于不同领域的微细加工,是实验室、微纳加工或小型生产的基础设备之一 。
【产品特点】
l 由反应腔室、真空获得系统、下电极、射频电源及匹配器、反应气路及质量流量计、真空检测系统、电气控制系统、控制软件等组成
l 能够刻蚀Si、SiO2、Si3N4、Poly-Si、Au、Ag、Ta、InP、W、LiNbO3、光刻胶、有机膜等材料
l 反应腔室采用耐腐蚀材质,可以保证腔室真空性能
l 真空获得系统由耐腐蚀高端干泵、分子泵等组成
l 下电极具备He背冷和水冷功能,精确控制工艺温度,适用于200mm及以下尺寸样品
l 采用进口射频电源,配有自动匹配器
l 可以根据用户需求灵活配置工艺气体,配有进口高精度质量流量计,精准控制反应气体流量
l 配置高精度工艺真空规和调压阀,精确控制工艺压力
l 工艺流程全自动,带有工艺数据库,提供多种的工艺菜单
l 机台安全机制由软硬互锁(interlock)两级组成,配有互锁、报警等安全措施
l 带有干法清洗功能,避免腔室污染
【产品配置及指标】
l 反应腔室: 1套;
l 真空获得系统: 1套
l 下电极: 1套
l 射频电源及自动匹配器: 1套,频率13.56MHz
l 反应气路及质量流量计: 根据用户需求配置
l 真空检测系统: 1套
l 电气控制系统: 1套
l 控制软件: 1套
l 选配loadlock自动传输系统
【主要应用】应用于光电子、MEMS、激光器、传感器、太阳电池等领域