【产品介绍】
利用辉光放电原理将惰性气体分解为惰性气体(比如氩气)离子,惰性气体离子经过阳极电场的加速对样品表面进行物理轰击,以达到刻蚀的作用。惰性气体进入电离区域并形成等离子体,然后由栅极将离子呈束状引出并加速,具有一定能量的离子束进入反应腔,射向样品表面,使材料原子发生溅射,以达到刻蚀目的,属纯物理刻蚀。
【产品特点】
l 由反应腔室、真空获得系统、下电极、离子源、真空检测系统、电气控制系统、控制软件等组成
l 主要用于各种金属以及氧化物等复杂体系的刻蚀等,例如:金属及氧化物:Ag、Au、Pt、Cu、MgO等;硅材料:SiO2、SiNx、石英等
l 反应腔室采用耐腐蚀不锈钢材质,内外壁电抛光,呈不规则圆柱体,保证工艺性能
l 真空获得系统由耐腐蚀高端干泵、分子泵等组成
l 下电极样品台可连续电动旋转,配备相应控制器,可实现相对离子束法向的倾斜,适用于200mm及以下尺寸样品
l 配置大直径均匀离子源,离子能量覆盖范围广
l 配置高精度工艺真空规和集成调压阀,精确控制工艺压力
l 工艺流程全自动,带有工艺数据库,提供推荐的工艺菜单
l 机台安全机制由软硬互锁(interlock)两级组成,配有互锁、报警等安全措施
l 带有干法清洗功能,避免腔室污染
【产品配置及指标】
l 反应腔室: 1套
l 真空获得系统: 1套
l 下电极: 1套
l 离子源: 1套
l 反应气路及质量流量计: Ar,1套
l 真空检测系统: 1套
l 电气控制系统: 1套
l 控制软件: 1套
l 选配终点检测系统
【主要应用】
应用于光电子、MEMS、激光器、传感器、太阳电池等领域