【产品介绍】

利用辉光放电原理将惰性气体分解为惰性气体（比如氩气）离子，惰性气体离子经过阳极电场的加速对样品表面进行物理轰击，以达到刻蚀的作用。惰性气体进入电离区域并形成等离子体，然后由栅极将离子呈束状引出并加速，具有一定能量的离子束进入反应腔，射向样品表面，使材料原子发生溅射，以达到刻蚀目的，属纯物理刻蚀。

【产品特点】

l 由反应腔室、真空获得系统、下电极、离子源、真空检测系统、电气控制系统、控制软件等组成

l 主要用于各种金属以及氧化物等复杂体系的刻蚀等，例如：金属及氧化物：Ag、Au、Pt、Cu、MgO等；硅材料：SiO2、SiNx、石英等

l 反应腔室采用耐腐蚀不锈钢材质，内外壁电抛光，呈不规则圆柱体，保证工艺性能

l 真空获得系统由耐腐蚀高端干泵、分子泵等组成

l 下电极样品台可连续电动旋转，配备相应控制器，可实现相对离子束法向的倾斜，适用于200mm及以下尺寸样品

l 配置大直径均匀离子源，离子能量覆盖范围广

l 配置高精度工艺真空规和集成调压阀，精确控制工艺压力

l 工艺流程全自动，带有工艺数据库，提供推荐的工艺菜单

l 机台安全机制由软硬互锁（interlock）两级组成，配有互锁、报警等安全措施

l 带有干法清洗功能，避免腔室污染

【产品配置及指标】

l 反应腔室：                      1套

l 真空获得系统：               1套

l 下电极：                          1套

l 离子源：                          1套

l 反应气路及质量流量计： Ar，1套

l 真空检测系统：               1套

l 电气控制系统：               1套

l 控制软件：                      1套

l 选配终点检测系统

【主要应用】

应用于光电子、MEMS、激光器、传感器、太阳电池等领域