Seehund® A 系列

气相分解金属沾污收集(VPD)系统



系统特性

  • 12英寸/8英寸兼容,应用于IC制造,12英寸大晶圆生产和再生,先导工艺研发等领域
  • 采用托盘可实现6英寸兼容
  • 可搭配电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)或全反射荧光光谱分析仪(TXRF)
  • VPD 与 ICP-MS或TXRF组合,可将检测灵敏度提高2个数量级,满足上述领域的痕量金属沾污监控需求








工艺数据

详细介绍

Seehund® A型气相分解金属沾污收集系统(VPD)是专为集成电路制造、大晶圆生产及再生、先导工艺研发等行业提供金属沾污控制方案的产品。由于目前的晶圆制造产业对金属沾污控制的要求已经远远低于TXRF和ICP-MS能够测量的极限,需要采用VPD对晶圆表面沾污做富集,才能突破检测灵敏度极限,满足晶圆产线的需求。该系统采用了12英寸及8英寸产线设备所通用的国际标准零部件,符合SEMI的设计标准,并经过了严苛的稳定性和可靠性测试验证。

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