RIE, IBE, PECVD
12英寸特种金属膜层刻蚀系统
ICP
12英寸硬掩膜刻蚀系统
ICP, Strip
12英寸金属刻蚀系统
8英寸硅刻蚀系统
8英寸金属刻蚀系统
8英寸电感耦合等离子体刻蚀(ICP)系统
8英寸电感耦合等离子体-深硅刻蚀(ICP-DSE)系统
CCP
电容耦合等离子体刻蚀(CCP)系统
IBE
12英寸离子束刻蚀(IBE)系统
8英寸离子束刻蚀(IBE)系统