RIE, IBE, PECVD
12英寸特种金属膜层刻蚀系统
ICP
12英寸硬掩膜刻蚀系统
ICP, Strip
12英寸金属刻蚀系统
8英寸硅刻蚀系统
8英寸金属刻蚀系统
8英寸电感耦合等离子体刻蚀（ICP）系统
8英寸电感耦合等离子体-深硅刻蚀（ICP-DSE）系统
CCP
电容耦合等离子体刻蚀（CCP）系统
IBE
12英寸离子束刻蚀（IBE)系统
8英寸离子束刻蚀（IBE）系统
