RIE, IBE, PECVD
12英寸特种金属膜层刻蚀系统
ICP
12英寸硬掩膜刻蚀系统
ICP, Strip
12英寸金属刻蚀系统
8英寸硅刻蚀系统
8英寸金属刻蚀系统
8英寸电感耦合等离子体刻蚀（ICP）系统
8英寸电感耦合等离子体-深硅刻蚀（ICP-DSE）系统
CCP
电容耦合等离子体刻蚀（CCP）系统
IBE
12英寸离子束刻蚀（IBE)系统
8英寸离子束刻蚀（IBE）系统
ICP-CVD
8英寸电感耦合等离子体化学气相沉积系统
PECVD
8英寸等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统
RIE, IBD
8英寸离子束沉积（IBD）系统
VPD
气相分解金属沾污收集（VPD）系统
