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LMEC-300™
LMEC-300™

RIE, IBE, PECVD

12英寸特种金属膜层刻蚀系统

Herent® Chimera® A
Herent® Chimera® A

ICP

12英寸硬掩膜刻蚀系统

Herent® Chimera® M
Herent® Chimera® M

ICP, Strip

12英寸金属刻蚀系统

Tebaank® Pishow® P
Tebaank® Pishow® P

ICP

8英寸硅刻蚀系统

Kessel™ Pishow® M
Kessel™ Pishow® M

ICP, Strip

8英寸金属刻蚀系统

Kessel™ Pishow® M2
Kessel™ Pishow® M2

ICP, Strip

8英寸金属刻蚀系统

Pishow® A 系列
Pishow® A 系列

ICP

8英寸电感耦合等离子体刻蚀(ICP)系统

Pishow® D 系列
Pishow® D 系列

ICP

8英寸电感耦合等离子体-深硅刻蚀(ICP-DSE)系统

Haasrode® Avior® A
Haasrode® Avior® A

CCP

电容耦合等离子体刻蚀(CCP)系统

Pangea® A 系列
Pangea® A 系列

IBE

12英寸离子束刻蚀(IBE)系统

Lorem® A 系列
Lorem® A 系列

IBE

8英寸离子束刻蚀(IBE)系统

Shale® C 系列
Shale® C 系列

ICP-CVD

8英寸电感耦合等离子体化学气相沉积系统

Shale® A 系列
Shale® A 系列

PECVD

8英寸等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统

Ganister™ A 系列
Ganister™ A 系列

RIE, IBD

8英寸离子束沉积(IBD)系统

Seehund® A 系列
Seehund® A 系列

VPD

气相分解金属沾污收集(VPD)系统

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