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LMEC-300™
LMEC-300™

RIE, IBS, PECVD

12英寸特种金属膜层刻蚀设备

Pangea® A 系列
Pangea® A 系列

IBS

12英寸离子束塑形(IBS) 设备

Lorem® A 系列
Lorem® A 系列

IBS

8英寸离子束塑形(IBS)设备

Ganister™ A 系列
Ganister™ A 系列

RIE, IBD

8英寸离子束沉积(IBD)设备

Herent® Chimera® A
Herent® Chimera® A

ICP

12英寸硬掩膜刻蚀设备

Herent® Chimera® M
Herent® Chimera® M

ICP, Strip

12英寸金属刻蚀设备

Tebaank® Pishow® P
Tebaank® Pishow® P

ICP

8英寸硅刻蚀设备

Kessel® Pishow® M
Kessel® Pishow® M

ICP, Strip

8英寸金属刻蚀设备

Kessel® Pishow® M2
Kessel® Pishow® M2

ICP, Strip

8英寸金属刻蚀设备

Pishow® A 系列
Pishow® A 系列

ICP

8英寸电感耦合等离子体刻蚀(ICP)设备

Pishow® D 系列
Pishow® D 系列

ICP

8英寸电感耦合等离子体-深硅刻蚀(ICP-DSE)设备

Haasrode® Avior® A
Haasrode® Avior® A

CCP

电容耦合等离子体刻蚀(CCP)设备

Shale® C 系列
Shale® C 系列

ICP-CVD

8英寸电感耦合等离子体化学气相沉积设备

Shale® A 系列
Shale® A 系列

PECVD

8英寸等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备

Seehund® A 系列
Seehund® A 系列

VPD

气相分解金属沾污收集(VPD)设备

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