Pishow™ A 系列

8英寸电感耦合等离子体-原子层刻蚀(ICP-ALE)系统



系统特性

  • Pishow™ A 系列是采用原子层刻蚀(ALE)技术的的电感耦合等离子体刻蚀(ICP)系统
  • 提供HEMT核心功能层刻蚀解决方案,包括实现对SiNx、TiN、pGaN、AlGaN等膜层的特殊刻蚀工艺
  • 提供ALE解决方案,实现对AlGaN刻蚀的高精度控制
  • 提供pGaN高选择比解决方案,实现对AlGaN的高精度损伤控制
  • 提供超低功率(< 1.0 W)工艺模式
  • Pishow™ A 系列可选择8~4英寸晶圆,提供单腔式和平台式等多种腔室搭配方式





设备选型

设备硬件


Terbank™ Pishow™ A Heverlee™ Pishow™ A Haasrode™ Pishow™ A
装载方式 自动,Cassette 自动,Cassette 自动,Load lock
样品尺寸 200 ~ 100 mm 200 ~ 100 mm 200 ~ 100 mm (托盘兼容碎片)
工艺气体 F基、Cl基、氧气以及惰性气体等
刻蚀线宽 最小CD 20 nm
适用范围 大量产 量产、中试线 科研和小规模量产
刻蚀材料 SiNx、TiN、pGaN、AlGaN
应用

HEMT器件核心功能层的介质刻蚀、金属刻蚀和GaN刻蚀

工艺数据

精准刻蚀控制,低损伤

Die内光滑,均匀性优

详细介绍

Pishow™ A 系列原子层刻蚀系统,是针对200~100mm产线或科研上HEMT器件的核心功能层刻蚀工艺的生产设备,拥有自主开发的优化设计,保证了优异的刻蚀精度控制及刻蚀损伤控制。

提供pGaN高选择比、AlGaN低损伤和AlGaN原子层刻蚀等各项工艺的解决方案。


该系统高性价比的解决方案和优秀的空间利用率,可帮助不同客户实现产能升级。

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