工艺数据

MTJ塑形

Ta塑形

详细介绍

Pangea^®A系列常规IBS设备由离子源栅极引出正离子并加速，中性束流撞击样品表面，溅射形成图像。由于等离子体的产生远离晶圆空间，起辉不受非挥发性副产物的影响。这种物理方案，几乎可以用来去除任何固体材料，包括金属、合金、氧化物、化合物、混合材料、半导体、绝缘体等。栅网拉出的离子束的能量和密度可以独立控制，提升了工艺可控性；载片台的角度可调整，实现离子束倾斜入射，可用于特殊图案的图形化，也适用于侧壁清洗等工艺。