工艺数据

详细介绍

CCP腔室适用于制造微纳结构的等离子刻蚀技术。在反应离子刻蚀过程中，等离子体中会包含大量的活性粒子，与表面原子产生化学反应，生成可挥发产物后，随真空抽气系统排出。鲁汶仪器的 Haasrode^® Avior^® A 在性价比和空间利用率上优点突出，可提供各种不同材料的刻蚀解决方案。