工艺数据
VPD可将检测灵敏度提升两个数量级
元素收集率测试：VPD & ICP - MS
详细介绍
Seehund® A型气相分解金属沾污收集设备（VPD）是专为集成电路制造、大晶圆生产及再生、先导工艺研发等行业提供金属沾污控制方案的产品。由于目前的晶圆制造产业对金属沾污控制的要求已经远远低于TXRF和ICP-MS能够测量的极限，需要采用VPD对晶圆表面沾污做富集，才能突破检测灵敏度极限，满足晶圆产线的需求。该设备采用了12英寸及8英寸产线设备所通用的国际标准零部件，符合SEMI的设计标准，并经过了严苛的稳定性和可靠性测试验证。